如今,HBM(High Bandwidth Memory)已不再是边缘技术,而是AI时代的核心推手。作为AI技术突破的基础设施,HBM通过垂直堆叠多个内存Die,极大提升了带宽和数据传输效率,让处理速度更快、传输路径更短。与传统GDDR和LPDDR内存相比,HBM的迭代速度堪称飞跃,其带宽增长令人惊叹。
在HBM市场竞争中,SK海力士和三星占据主导地位,合计占据超过90%的市场份额。而美光则紧随其后,占据7%的市场份额。这三家巨头都在为下一代“王牌”——HBM4 摩拳擦掌,在2025年的闪存峰会(FMS)上纷纷展示实力。
功耗成为限制因素时,HBM正朝着性能与效率的平衡发展。SK海力士认为,HBM能显著提升AI性能,打破“内存墙”瓶颈。其将HBM定位为“近内存”,比传统主内存更接近计算核心,从而拥有更高的带宽和更快的响应速度。
SK海力士的HBM具有三大结构优势:通过3D TSV(硅通孔)堆叠实现高容量;通过宽通道并行传输实现高带宽;在单位比特传输上比传统DRAM更低能耗。这些创新使得HBM能大幅提升系统性能,尤其在AI等高吞吐量应用中发挥关键作用。
在HBM的代际演进中,SK海力士实现了带宽的显著提升。值得注意的是,HBM4在带宽上实现了巨大飞跃,比HBM3E增加了200%。此外,HBM4在能效、容量和散热方面均有显著提升。
三星也将HBM视为近存的一种,其HBM带宽不断提升。从HBM2到HBM4E,芯片尺寸在增加,功耗也上升,但能源效率在持续降低。尽管如此,三星的HBM3E在能源效率上取得了显著进步。
三星的HCB(Hybrid Bonding)技术实现了HBM Die之间及与中介层之间的无缝连接。相比传统技术,HCB支持更高的堆叠层数,提供更好的散热支持。
美光直接跳过HBM3,用HBM3E进入市场。其HBM4采用12层内存Die堆叠设计,相较于前代在容量、带宽和能效上都有显著提升。
HBM制造过程复杂,涉及前端和后端的七大主要步骤。TrendForce分析师认为,前端工艺的改进是提升带宽和单Die密度的关键。然而,随着Die尺寸增大,每GB成本更高。
后端工艺的目标是增加堆叠层数。三大供应商采用不同的堆叠技术。其中,海力士以MR-MUF著称,而三星和美光则使用TC-NCF。
根据Yole Group的数据,HBM市场未来几年将呈现高速增长态势。然而,MKW Ventures Consulting LLC的分析师警告称,新技术热度高涨时往往伴随着夸大的预期和过渡炒作的风险。
尽管HBM市场前景光明,但其发展将经历周期性的调整。目前,中国正在加大力度实现HBM生产的本地化,有望在未来几年内赢得重要立足之地。
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