光刻机热潮：全球大厂争相订购，国产崛起势不可挡

10月13日，光刻机概念股在股市上展现出强劲的增长势头。

当日收盘时，新莱应材（300260.SZ）、旭光电子（600353.SH）、凯美特气（002549.SZ）等股票强势涨停，江丰电子（300666.SZ）、国林科技（300786.SZ）、华特气体（688268.SH）等涨幅超过10%，苏大维格（300331.SZ）、*ST和科（002816.SZ）等也跟随上涨。

全球大厂纷纷抢购光刻机

在半导体产业链中，光刻机作为上游设备的代表，对产业的发展起着至关重要的作用，是推动芯片制程进步的关键力量。

近期，半导体光刻机领域动作频频，英特尔和三星等大厂纷纷增加了对光刻机的订单量。其中，英特尔将ASML的High-NA EUV订购数量从1套提升至2套，EUV的订购数量从3套提高到5套；三星则将EUV的订购数量从5套提高到7套。

业界指出，随着芯片制程不断向更小的纳米级别迈进，EUV技术正逐渐逼近物理极限，而High NA EUV则是开启半导体产业未来的核心技术。

据悉，高数值孔径(High-NA)是衡量镜头聚焦光线能力的关键指标，数值越高，分辨率越高，能够绘制更精细的电路图案，能大幅缩短制造时间，降低缺陷率并提高良率。单台High NA EUV光刻机的售价高达约3.7亿美元（约合人民币26亿元），被誉为芯片市场的“圣杯”。

今年9月，SK海力士宣布在韩国利川M16工厂引入了业界首款量产型高数值孔径极紫外光刻机（High NA EUV），这是荷兰ASML公司推出的TWINSCAN EXE:5200B设备。

SK海力士计划通过引进该设备简化现有的EUV工艺，并加快下一代半导体存储器的研发进程，确保产品性能和成本竞争力。此外，SK海力士还计划在未来两年内新购置约20台EUV光刻系统，投资规模预计至少为6万亿韩元以上。

国产光刻机取得重大突破

在全球半导体产业格局深刻变革的背景下，我国光刻机国产化进程也迎来了重大突破。

目前，国产光刻机在90nm及以下工艺节点方面取得了重要进展。例如，上海微电子自主研发的600系列光刻机已实现90nm工艺的量产，并正在进行28nm浸没式光刻机的研发工作。

深圳稳顶聚芯也宣布其自主研发的首台国产高精度Stepper（步进式）光刻机顺利出厂，主要应用于mini/micro LED光电器件、光芯片、功率器件等化合物半导体领域。据悉，稳顶聚芯成立于2023年5月，位于深圳南山区。目前，公司具备年产20台光刻机的产能，预计2025年实现营收1.4亿元、净利润4480万元。

此外，洪田股份间接控股子公司洪镭光学也宣布其首台HL-P20直写光刻机已通过华南某FPC客户验收。该设备为面向PCB领域的双台面激光直写机型，具备出色的性能和市场认可。

年内已诞生9只翻倍股

随着光刻机技术的突破将带动上游材料、精密机械等配套产业升级，加速“卡脖子”材料的国产化进程。形成“龙头带动、多点突破”的产业升级格局。

同花顺数据显示，目前A股光刻机概念一共有47家上市公司。从二级市场表现看今年以来截至10月10日收盘已有42家上市公司股价出现上涨。

其中联合化学（301209.SZ）、凯美特气（002549.SZ）等9家公司股价成功实现翻倍。

今日新莱应材触及涨停板该公司主营业务包括洁净应用材料和高纯及超高纯应用材料的研发、生产与销售。在泛半导体领域公司的高纯及超高纯应用材料能够满足特定工艺要求。根据机构调研公司真空系统AdvanTorr、气体系统NanoPure已应用于泛半导体产业链并通过美国排名前二的半导体设备厂商认证成为一级供应商。公司坚持国产替代战略在半导体设备及厂务端零部件市场积极布局预期该业务板块将保持高速增长。

凯美特气今日也触及涨停板该股近一年涨停多达27次。公司主营产品包括高纯二氧化碳、氢气等并在二氧化碳行业保持龙头地位。同时公司持续扩大在芯片半导体、航天、医疗等高端领域的电子特气产能。未来随着电子特气国产替代进程加快及氢能等新兴领域需求上升公司有望借助产能扩张打开增长新空间。