2025年美国国家发明家科学院院士名单揭晓：华人学者占比20%

据最新统计，美国国家发明家科学院（NAI）2025届院士名单中，华人学者占比高达20%，平均每5位新晋院士就有1名是华人。

近日，美国国家发明家科学院（National Academy of Inventors，NAI）公布了其2025届院士名单，共有185位杰出发明家入选，包括169名美国本土学者及16位国际成员。

本届NAI院士在多个领域取得了显著成就，共持有超过5300项美国专利，其中包括诺贝尔奖得主、美国国家科学奖章与国家技术与创新奖章获得者等。

这些院士的研究横跨量子计算、AI、再生医学等多个前沿领域，为应对当今时代最重大、最紧迫的挑战贡献了自己的力量。

自2012年创立以来，NAI院士项目已发展至包含2253位杰出研究人员和创新者，他们共持有超过86000项美国专利和20000项已实现许可的技术，预计创造了约3.8万亿美元的收入，并带动了140万个就业岗位。

美国国家发明家科学院院长Paul R. Sanberg博士表示，新一届NAI院士将在明年6月4日于洛杉矶举行的第15届年度大会上领取荣誉奖章。

荣膺2025「美国最新发明家」的华人

Hua「Kevin」Bai

Hua「Kevin」Bai在电气工程领域拥有卓越成就，特别是在宽禁带器件及其应用方面。

Joseph Sylvester Chang

Joseph Sylvester Chang在电气与电子工程及生物医学领域有着广泛的研究兴趣与贡献。

Eugene Chen

Eugene Chen在高分子科学及绿色化学领域取得了杰出成就，拥有多项重要荣誉。

Ji-Xin Cheng

Ji-Xin Cheng在化学键选择性化学领域有着深厚的学术背景，并在光子学与光电子学领域取得了显著成就。

Sheng Dai

Sheng Dai在功能材料开发方面取得了开创性突破，并因其在离子液体及多孔材料研究中的贡献而获得了多项国际奖项。

Zhiqun（Daniel）Deng

Zhiqun（Daniel）Deng在生物声学与流体实验室的研究中取得了重要成果，为水电、风能等领域的环境监测与风险评估提供了有力支持。

Hongyou Fan

Hongyou Fan在功能纳米材料的设计、合成与自组装方面有着卓越贡献，并推动了多项技术成果的应用。

Shanhui Fan

Shanhui Fan在纳米光子结构的基础研究及应用方面取得了显著成就，发表了700余篇学术论文并拥有多项专利。